裝置メーカーとの共同開(kāi)発體制を背景に、デバイスメーカーのさまざまな要望に応える開(kāi)発を進(jìn)め、高い評(píng)価と信頼を得ているリソグラフィ用UVランプです。

500w～35kwクラスまでの幅広いラインナップで、生産性向上?歩留まり改善などに最適な光をご提案します。また、お客さまの新規(guī)裝置開(kāi)発にあわせたランプ開(kāi)発も承ります。

特長(zhǎng)

フォトリソグラフィ光源に最適な紫外線(xiàn)波長(zhǎng)

ウシオの超高圧UVランプは、紫外線(xiàn)波長(zhǎng)の中でも、特に3線(xiàn)（436nm?405nm?365nm)を有効に活用できるように開(kāi)発されており、長(zhǎng)壽命で安定した放射照度を持つ高輝度光源です。

光學(xué)系の性能を最大限に引き出す點(diǎn)光源

アークサイズが極めて點(diǎn)光源に近いため、拡散が容易であり、均一で平行な光が得られます。

半導(dǎo)體、液晶?カラーフィルター?OLED?タッチパネル、プリント基板用回路焼き付けなど、用途に応じた幅広いランプ出力

パターン焼き付け（リソグラフィー）のニーズに対して、小型（500wクラス）～超大型（35kwクラス）まで、幅広いサイズのランプで対応します。

既存裝置の性能を最大限に引き出す高照度

既存裝置のスループット向上のニーズに対して、高照度ランプを使用するだけで、確実に生産性の向上が期待できます。

※一部の裝置メーカー製品では裝置の改造が必要となる場(chǎng)合があります。

求められる波長(zhǎng)に対応したランプ開(kāi)発

お客さまの新規(guī)裝置の開(kāi)発にあわせて、ベストフィットなランプを開(kāi)発します。詳細(xì)はお問(wèn)い合わせください。

主な用途

半導(dǎo)體回路形成用光源
液晶パターン形成用光源
カラーフィルターパターン形成用光源
OLEDパターン形成用光源
タッチパネルパターン形成用光源
プリント基板回路形成用光源
MEMSパターン形成用光源
その他新規(guī)露光用途
など