裝置メーカーとの共同開発體制を背景に、デバイスメーカーのさまざまな要望に応える開発を進め、高い評価と信頼を得ているリソグラフィ用UVランプです。

500w～35kwクラスまでの幅広いラインナップで、生産性向上?歩留まり改善などに最適な光をご提案します。また、お客さまの新規(guī)裝置開発にあわせたランプ開発も承ります。

特長

フォトリソグラフィ光源に最適な紫外線波長

ウシオの超高圧UVランプは、紫外線波長の中でも、特に3線（436nm?405nm?365nm)を有効に活用できるように開発されており、長壽命で安定した放射照度を持つ高輝度光源です。

光學系の性能を最大限に引き出す點光源

アークサイズが極めて點光源に近いため、拡散が容易であり、均一で平行な光が得られます。

半導體、液晶?カラーフィルター?OLED?タッチパネル、プリント基板用回路焼き付けなど、用途に応じた幅広いランプ出力

パターン焼き付け（リソグラフィー）のニーズに対して、小型（500wクラス）～超大型（35kwクラス）まで、幅広いサイズのランプで対応します。

既存裝置の性能を最大限に引き出す高照度

既存裝置のスループット向上のニーズに対して、高照度ランプを使用するだけで、確実に生産性の向上が期待できます。

※一部の裝置メーカー製品では裝置の改造が必要となる場合があります。

求められる波長に対応したランプ開発

お客さまの新規(guī)裝置の開発にあわせて、ベストフィットなランプを開発します。詳細はお問い合わせください。

主な用途

半導體回路形成用光源
液晶パターン形成用光源
カラーフィルターパターン形成用光源
OLEDパターン形成用光源
タッチパネルパターン形成用光源
プリント基板回路形成用光源
MEMSパターン形成用光源
その他新規(guī)露光用途
など