什么是氣相沉積設(shè)備？
?氣相沉積設(shè)備是進(jìn)行真空沉積（VD）的設(shè)備，在減壓下使物質(zhì)氣化并在靶材上形成薄膜。
通過(guò)使用氣相沉積設(shè)備，可以在目標(biāo)物體上形成光滑的涂膜，并且還可以控制膜的厚度和成分。
氣相沉積設(shè)備的應(yīng)用
氣相沉積設(shè)備可以由多種材料形成薄膜，包括鋁等金屬材料以及有機(jī)和無(wú)機(jī)材料。
氣相沉積設(shè)備用于以下目的。
光學(xué)薄膜（鏡片增透膜、特殊鏡子等）
磁帶（錄音帶、錄像帶等）
半導(dǎo)體（有機(jī)EL、LED、太陽(yáng)能電池等）
電子元件（電阻、電容、半導(dǎo)體集成電路等）
食品包裝材料（休閑食品袋用鋁蒸鍍膜等）
分析用途（樣品制備）
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