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【新品上市】 UV照射裝置HMW-615N-4

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標題01

這是一種非接觸裝置,在半導體制造工序、液晶基板制造工序等微細圖案形成工序中,對基板表面殘留的有機物照射UV,去除有機污染物。可以在不損壞基材的情況下清潔和修飾表面。

標題01
  • 配備獨特的低壓紫外燈,對基材損傷小,分解有機物能力強。
  • 通過使用振動基板的方式,使UV光均勻地照射基板。
  • 基材不會升溫太多。
  • 可以應用消除臭氧的照射方法和清除氮氣的照射方法。
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產(chǎn)品規(guī)格

規(guī)格

型式 HMW-615N-4
二手燈 低壓紫外線燈
VUV-100/A-5.3U 7燈
照射距離 25毫米
照射面積 400寬×400深
照射時間 任意(最大99分59秒)
廢氣臭氧去除 使用臭氧分解過濾器
外形尺寸 700(寬)×800(深)×1447(高)