什么是曝光設(shè)備？

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光刻設(shè)備用于半導(dǎo)體和液晶顯示器的制造現(xiàn)場(chǎng)，通過(guò)照射光在基板上繪制電路和像素等圖案。

除了使用極強(qiáng)的光線外，還需要對(duì)舞臺(tái)等進(jìn)行精確的控制，因此很多產(chǎn)品體積龐大，成本動(dòng)輒上億。

曝光工藝是非常重要的設(shè)備，因?yàn)樗鼪Q定了半導(dǎo)體和液晶顯示器制造中設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)（?CAD數(shù)據(jù)）的圖案。

不同的公司已經(jīng)開發(fā)了各種曝光方法并應(yīng)用于設(shè)備中。

曝光設(shè)備的使用

曝光設(shè)備主要用于半導(dǎo)體制造現(xiàn)場(chǎng)和包括液晶顯示器在內(nèi)的平板顯示器(FPD)制造現(xiàn)場(chǎng)。

在半導(dǎo)體制造工藝中，以硅晶片為基板，形成氧化膜等后，涂敷光致抗蝕劑（感光材料），通過(guò)曝光裝置向涂敷面照射強(qiáng)紫外光。

由此，能夠通過(guò)蝕刻等除去不需要的部分。這種使用曝光設(shè)備的方法稱為光刻法。

在LCD制造過(guò)程中，一般采用玻璃基板，并重復(fù)金屬薄膜沉積、光刻和蝕刻的多個(gè)循環(huán)。

濾色器可以通過(guò)將像素電極和開關(guān)元件(TFT元件等)布置在一個(gè)基板上并且將三基色光(紅、綠和藍(lán))布置在另一基板上來(lái)形成。

通過(guò)將兩個(gè)基板粘合在一起并在它們之間放置液晶材料，就完成了液晶顯示器的面板。

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選擇曝光設(shè)備時(shí)，有必要在購(gòu)買前與設(shè)備制造商充分討論曝光所用光源的類型和精度、載物臺(tái)的精度等，因?yàn)樗鼈兎浅０嘿F。

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